Револуција во EUV технологијата: Кина пред наш потенцијал за автономност во полупроводниците
Кина ја презема иницијативата во полупроводничката индустрија со развој на првиот домашен прототип EUV литографија. Според информациите од Ројтерс, овој прототип е изграден користејќи делови од старите машини на ASML и се очекува да отвори пат за производството на чанти до 2030 година.
Демострацијата на оперативен EUV прототип ја подлагодува напорската работа на кинеските компании во последните години, особено за да се справат со големите предизвици што ги поставува оваа технологија. Компаниите како SMIC продолжуваат да ја испитуваат технологијата и да ги подобруваат своите инженерски способности преку пренасочување на експертизата од западните снабдувачи. Во моментот се истакнува дека прототипот е целосно работен и способен да обезбеди UV светлина за обработка на вафли, но и дека системот сѐ уште зависи од компоненти од старите машини на ASML.
Истражувачите нагласуваат дека Кина се соочува со технички пречки во копирањето на прецизните optical системи, но нивните напори покажуваат значителни знаци на напредок. Потребни се повеќе информации за тоа како точно се реализира овој прототип, а индустријата останува убедена дека во близка иднина може да се види побрза реализација отколку што се предвидувало.
Перспективата за одвојување од западните снабдувачи се подгрева откако извршниот директор на ASML, Christophe Fouquet, порача дека развојот на ваква технологија во Кина ќе биде долг процес. Сепак, раните сигнали од оваа најава сугерираат дека Кина може побрзо да достигне поголема независност во полупроводничките капацитети, особено ако продолжи со инвестициите во домашни производни капацитети и развој на N+3 процеси како што ги демонстрира SMIC. Ваквите напори се клучни за поддршка на растечката побарувачка за вештачка интелигенција и потребата од сопствени чипови во кинескиот технолошки сектор.
